【CNMO科技音问】近日，CNMO审视到，有日媒报说念称， 日本冲绳科学技巧大学院大学开导出一项技巧，旨在显耀减少制造顶端半导体所必需的极紫外线（EUV）光刻建筑的能耗与制形老本。该立异恶果由该校新竹积磨真金不怕火领衔研发色吧网，其中枢在于将EUV光刻旅途中的反光镜数目从传统的10个精简至4个，从而灵验缩短了EUV光源的能量损耗。
现时，大家EUV光刻建筑市集主要由荷兰ASML公司把持，其建筑通过复杂的10镜反射系统兑现EUV光到晶圆的高精度转印，但经过中EUV能量亏蚀严重，仅约1%最终抵达晶圆。比拟之下，新技巧通过减少反光镜数目至4个，显耀普及了能量传输服从，使得卓绝10%的EUV能量省略径直作用于晶圆色吧网，举座耗电量因此缩短至原建筑的约特地之一。
此外，新技巧还简化了建筑结构，预期省略大幅缩短建筑的制形老本，揣摸原来约200亿日元的建筑引入用度有望减半。为考据这一技巧的可行性与效果，冲绳科学技巧大学院大学规画率先使用发光二极管（LED）在减弱至本体建筑二分之一大小的模子上进行初步测试，随后自2025年起转用EUV光源进行深远考据。
新竹积磨真金不怕火示意盼望与企业界联袂协作色吧网，力图最早在2026年收效研发并推出首台收受该新技巧的EUV光刻建筑。